期刊简介
本刊为口腔医学专业学术期刊。主要报道国内外口腔医学的最新理论与技术，为口腔医学临床和基础及教学服务，为读者服务。辟有焦点论著（附评论）、论著、综述、讲座、短篇报道、专业英语、病例报告、学术动态等十多个栏目，读者对象为全国各地口腔医疗、教学、科研人员，口腔专业学生、护理、医技人员等。本刊为双月刊，双月28日出版。
往期目录
-
1999
-
2000
-
2001
-
2002
-
2003
-
2004
-
2005
-
2006
-
2007
-
2008
-
2009
-
2010
-
2011
-
2012
-
2013
-
2014
-
2015
-
2016
-
2017
-
2018
首页>口腔医学研究杂志
- 杂志名称：口腔医学研究杂志
- 主管单位：中华人民共和国教育部
- 主办单位：武汉大学口腔医学院
- 国际刊号：1671-7651
- 国内刊号：42-1682/R
- 出版周期：月刊
期刊荣誉：国家科技部中国科技论文统计源期刊期刊收录：北大核心期刊(中国人文社会科学核心期刊), 统计源核心期刊(中国科技论文核心期刊), CA 化学文摘(美), 哥白尼索引(波兰), 知网收录(中), 万方收录(中), 国家图书馆馆藏, 上海图书馆馆藏, 维普收录(中), CSCD 中国科学引文数据库来源期刊(含扩展版)
纯钛表面电火花沉积中间层对钛瓷结合强度的影响
姜涛；胡江；周健；唐长斌；高勃
关键词：电火花沉积, 中间层, 铸造纯钛, 钛瓷, 结合强度
摘要：目的:探讨在铸造纯钛表面电火花沉积技术制备中间层对钛瓷结合强度的影响.方法:将40个纯钛试件平均分为4组,分别用硅、锆及钴铬合金电极通过电火花沉积技术在其表面制备中间层,对照组不作沉积处理,喷砂后测各组试件的表面粗糙度.参照ISO 9693(1999)Amd.1 2005(E)标准在试件中份烧结Ti-22瓷粉,测钛瓷间的三点弯曲结合强度.对钛瓷结合界面进行扫描电镜观察及X射线能谱分析.用X射线衍射分析仪分析硅电极组中间层的结构.结果:喷砂后各组试件表面粗糙度差异无显著性,硅电极组钛瓷间的三点弯曲结合强度高,为(33.38±3.67)MPa.较其他3组结合强度差异有显著性(P<0.05),其他3组间钛瓷结合强度差异无显著性.扫描电镜观察显示各组试件钛瓷结合界面均未见明显氧化层,硅电极组可见中间层与钛基材间有约15～20 μm的过渡层.X射线衍射分析结果提示硅电极组中间层中有TiN、Ti5Si3及TiSi2生成.结论:通过电火花沉积技术用硅电极在铸造纯钛表面制备中间层可提高其钛瓷结合强度.
友情链接